PVD 真空镀膜知识
时间:2024-07-24 来源:管理员 作者:管理员
最近网上出现了创新PVD 真空镀膜技术，其实真空图层技术在上个世纪六十年代就出现的。下面有关PVD 真空镀膜技术的知识，小编带你了解一下。
一、什么是PVD？
PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。
目前常用的PVD有三种：真空蒸镀、溅射镀膜和离子镀；它们的工作原理如下：
1、真镀空膜：是在适当的压强下用电子束等热源加热材料使之蒸发，蒸发的原子或分子直接在工件表面形成沉积层；
2、溅射镀膜：是不采用蒸发技术的物理气相沉积方法，施镀时，将工作室抽成真空，冲入氩气做为工作气体，并保持其压力为0.13至1、33帕；
3、离子镀：是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。
我们通常所说的PVD镀膜，指的就是真空离子镀膜；通常所说的PVD镀膜机，指的也就是真空离子镀膜机。
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